日本 DNP 开发 1.4nm 级纳米压印模板，目标 2027 年量产‎

每日消费电子观察

佳能：纳米压印设备可以生产 2nm 芯片，价格仅有 EUV 光刻机的10% https://www.icsmart.cn/71915/ https://cn.nikkei.com/columnviewpoint/column/54351-2023-12-25-05-00-55.html 设备价格低不代表总生产成本也低

日本 DNP 开发 1.4nm 级纳米压印模板，目标 2027 年量产
‎https://www.ithome.com/~
https://www.dnp.co.jp/~

应该是佳能设备的组件，几年前报道两家在 NIL 方面有合作

IT之家

日本 DNP 开发 1.4nm 级 NIL 纳米压印图案化模板，目标 2027 年量产

新一代模板采用 SADP“套刻”方案，通过在初步图案的基础上薄膜沉积和蚀刻使线宽降低到 10nm。